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半導體光學元件量測之利器 -- JASCO V-1000/V-800型超短波紫外分光光譜儀 |
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近年來半導體產業正積極地研發新一代更細微化的蝕刻技術，上一代蝕刻用雷射波長為193nm，目前在日本主要是研究更新一代波長為157nm的F2雷射。
研究利用F2雷射蝕刻的課題有好幾種，其中有一項是光學元件的開發：以前慣用的SiO2光學元件對於F2雷射透光性較差，但仍可找到好幾種具有高透率的光學材料，其中以CaF2在工業用途上為最有利。研發CaF2製造光學鏡片有三個課題(1)高穿透率(2)穿透率均一性(3)防止表面反射。
JASCO V-1000/800型超短波紫外分光光譜儀是用於測量光學元件在115nm~300nm波長範圍的光學特性。本系統以充填氮氣的方式除去系統中的氧氣，可以有效縮短從設定樣品到開始測定的時間。另外，以雙分光器降來低迷光率、使用收差補正型光學系增強集光效率。此外，利用Monitor Double Beam的方式，可提高測量再現性達0.03% (157nm)。
若欲更進一步了解JASCO V-1000/800型超短波紫外分光光譜儀，請與本公司聯絡! |
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